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氟化物材料
化學式 規格/mm 熔點/℃ 蒸發源 折射率 透明波段 用途
Formula Preduct
Size
melting
point
Evaporatio
source
Refractive index
at550nm
The transparent
band
Application
MgF2 1-2/1-3等 1266 B(W,Ta,Mo) 1.38 110-10000nm 增透膜,多層膜,濾光片,分光器
CeF3 ?1-3等 1460 E,B(W) 1.63 300-500nm 保護膜
CaF2 ?1-3等 1360 B(W,Ta,Mo) 1.23-1.46 150-12000nm 增透膜,偏光鏡
YbF3 ?1-3等 1157 E 1.52 220-12000nm 增透膜,熱反射膜/介質膜,
偏光鏡,分束鏡,激光鍍膜
YF3 ?1-3/3-5等 1387   1.59 220-14000nm 增透膜,偏光鏡,分束鏡,
激光鍍膜
Na3AlF6 ?1-8等 1000 B(Ta,Mo) 1.32-1.35 200-14000nm 窄帶濾光片,紫外膜
AlF3 ?1-4等 900 B 1.38 200-20000nm 增透膜
LaF3 ?1-3等 1490 E,B(W,Mo) 1.55 200-12000nm 增透膜,介質鏡,二向色濾光片
偏光鏡
NdF3 ?1-4等 1410 B(Ta,Mo) 1.61 220-6000nm 增透膜,偏光鏡,分束鏡,
激光鍍膜
 
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